Még a 2020-as esztendő közepén durrant nagyot az a hír, miszerint csúszik az Intel 7 nm-es eljárásának bevetése. A vállalat ezt a gyártástechnológiát eredetileg a 2021-es év végére ígérte, de annyira rosszul haladtak a fejlesztéssel, hogy kénytelenek voltak új céldátumot megjelölni.

Az Intel a 7 nm-es node-ot a csúszás bejelentésekor a 2022-es esztendő végére ígérte, és a DigiTimes riportja hivatalos forrásból megerősítette, hogy tartani is tudják majd a terveket, így még idén megkezdődhet a tömeggyártás.

Persze azóta a gyártási eljárást Intel 4-re nevezték, de ennek nagy jelentősége nincs, hiszen továbbra is a a Santa Clara-i óriáscég első, 7 nm-es, EUV litográfiát alkalmazó node-járól van szó.

A szóban forgó gyártástechnológián egyébként elsőként a Loihi 2 kódnevű lapka fog készülni, ami mindössze 31 mm²-es kiterjedésű, tehát elég sok ráfér belőle egy waferre, ráadásul a kialakítása miatt nagyfokú redundanciára ad lehetőséget, így a kihozatal optimális szintre tornászása kapcsán ideális választás.