Kína számára stratégiai fontosságúvá vált a saját chipgyártást megerősítése, miután az USA egyre több kínai céget szankcionál azzal, hogy elvágják az Egyesült Államokból származó technológiáktól. A legnagyobb problémát a modern gyártástechnológiákra vonatkozó függetlenedés jelenti, mivel az ezekre épülő lapkákat olyan berendezéseken keresztül állítják elő, amelyek alapjaikban az USA technológiáját használják.

A fentiek miatt fontos az a bejelentés, hogy az SMEE, vagyis a Shanghai Micro Electronic Equipment a következő év végére ígéri a második generációs, DUV litográfiát alkalmazó levilágítóját, amely alkalmazható lesz a 28 nm-es gyártástechnológiára tervezett lapkákhoz. Ez finoman szólva sem mondható csúcstechnológiának, de mégis jelentős lépésnek fogható fel, továbbá ezekkel a berendezésekkel 40 nm-es lapkák is gyárthatók, amivel igen fontos piacokat lehet lefedni.

Az új berendezéséhez pár Japánból származó technológia is felhasználásra került, de nagyrészt kínai fejlesztésről van szó. A távlati tervek tekintetében a 20 nm-es eljárás is komoly fókusznak számít, hiszen 2023-ban már ehhez megfelelő levilágítókat is kínálna az SMEE.

Hosszabb távon természetesen Kína szeme előtt is az EUV litográfia lebeg, amit a piacvezető bérgyártók már bevetettek. A keleti nagyhatalom ettől persze még nagyon-nagyon messze van, viszont állami szinten erősen támogatott projektként fut ez az irány.