A legnagyobb memóriagyártók közül már szinte mindenki rálépett az EUV litográfia ösvényére, a Micron azonban ezzel még várt, és a 10 nm-es osztályú node-jainál még mellőzi ezt a technológiát. Ugyanakkor nem teszik majd ez sokáig, mivel a cég a friss útitervében felvázolta, hogy a harmadik generációs 10 nm-es osztályú, egyébként 1γnm nevű node-ja már erre az eljárásra épít.

A vállalat az új eljárást ott építi ki, ahol az aktuálisan elérhető legmodernebb, 1βnm node-jukon gyártanak, vagyis a hirosimai üzemben. Ezzel egyébként ez lesz az első gyár Japánba, amely EUV litográfiát alkalmaz.

[+]

A Micron az 1γnm node-on való gyártás megkezdését 2025-re datálja, ami a korábban ígért 2024-es dátumhoz viszonyítva csúszásnak számít, de valószínűleg itt számít, hogy a memóriapiac általánosan gyengélkedik, így a fejlesztések üteme is némileg visszalassulhatott.